歡迎!上海自動化儀表三廠的核心技術和先進的散熱解決方案可提供卓越的性能 - 為客戶提供行業優勢。在這里,我們將專注于半導體加工設備的散熱解決方案。未來的問題將關注分析儀器,食品服務設備,醫療設備,塑料和加工行業的散熱解決方案。
半導體加工 - 精密熱管理和控制
半導體器件制造需要多個光刻,沉積和蝕刻步驟。過程溫度控制對于成功生產設備及其性能規格至關重要。這適用于所有半導體器件,尤其是存儲器件和其他集成電路(IC),其性能取決于存儲器容量和處理速度。新一代半導體器件正變得越來越小,越來越復雜。隨后,制造每一代新一代半導體器件都需要更多創新和精確的溫度控制。
創新的基座加熱器技術
晶圓夾頭和基座加熱器在為半導體原始設備制造商開發散熱解決方案方面的第一次經驗是在20世紀90年代初期開發的用于化學氣相沉積,光刻,蝕刻和晶圓測試設備的鑄鋁基座加熱器。100和150 mm晶圓加工的早期應用是上自儀三廠持續熱研究和開發的基礎。憑借在原位真空應用中設計和制造金屬基座加熱器的核心競爭力,上海儀表三廠成為首選的熱解決方案供應商。隨著行業向300mm制造設備和尺寸線寬度和間距減小方向發展,創新解決方案仍在繼續。
熱工程,創新和新技術
1965年,英特爾公司和飛兆半導體公司的聯合創始人戈登·E·摩爾觀察到,每個集成電路的晶體管數量每兩年就會增加一倍。這一觀察成為所謂的摩爾定律,也是今天仍然有效的半導體技術路線圖指南之一。加倍很容易說,但它也伴隨著許多技術挑戰和新發展。
與此同時,上海自動化儀表三廠面臨著開發下一代散熱解決方案的挑戰。最近,我們開發出新的核心熱技術,符合下一代半導體器件的性能,制造和成本要求。這些技術真正代表了對舊加熱器和溫度控制技術的改進。
氣體和消減線熱解決方案
上自儀三廠溫度變送器和泡沫絕緣硅橡膠加熱解決方案旨在優化半導體真空消除系統的性能。
溫度變送器是一種正在申請專利的集成變送器,與傳統解決方案相比,可降低熱系統的復雜性和成本。在一個變送器中組合多個傳感器輸入,包括過程溫度,極限溫度和電流感測,允許監測并聯連接的多個加熱器。該設計用于維護人員可能無法輕易到達的偏遠地區,包括一個燈條,可提供系統健康狀況的直觀指示。其他功能包括Modbus RS-485通信,數字輸入/輸出,高/低報警輸出和斜坡/保溫溫度曲線。
泵管加熱器
加熱器和絕緣系統,上自儀三廠開發了正在申請專利的先進加熱器技術,因為半導體設備行業的工程師需要符合下一代制造工藝規范的散熱解決方案,同時降低熱系統成本。泵管加熱器有標準ID尺寸直徑1.0,1.5,2.0,4.0和6.0英寸直管段,彎頭,三通,減速器和法蘭。加熱器也可以根據閥門,調節器和其他氣體輸送和泵管組件的尺寸輕松設計。
氮化鋁(AlN)加熱器技術
多層AlN冷水機技術超純高性能先進陶瓷材料對于加工下一代半導體器件至關重要。杜蕾斯認識到開發加熱器技術的好處,該技術將補充2017年AlN的物理特性。熱膨脹系數,熱傳遞,硬度和對大多數化學品的耐受性使AlN成為原位真空和其他半導體應用的首選材料。
一個例子是上海自動化儀表三廠開發了一種新的基于冷卻器技術的氮化鋁(AlN)陶瓷加熱器技術,其中嵌入了鎢熱電阻傳感器。這項正在申請專利的極端陶瓷冷水機/加熱器能夠:
在200至每秒200°C的溫度下加熱至100°C至450°C。
在每秒100°C的溫度下從450到100°C冷卻。
該性能基于多層單片陶瓷技術,可包括加熱器,冷卻微流體,熱電阻傳感器,接地層和其他層。AlN的高導熱性和低溫膨脹性能可實現快速的溫度響應??焖偌訜?冷卻冷卻器的應用在半導體設備和分析儀器中很常見。
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